按照外媒Techpowerup报道，近日ASML暗示，按照今朝的定单资讯及需求，估计2027年将交付10套High-NA EUV及56套EUV光刻机。此中，英特尔及三星近来都提高了光刻机的定单量，英特尔将High-NA EUV的订购数目从1套提高到2套，EUV的订购数目从3套提高到5套，别的三星也将EUV的订购数目从原有的5套提高到7套。

值患上留意的还有有SK海力士，2027年ASML要交付的EUV光刻机里占了20套的数目，同时也将High-NA EUV的订购数目从1套提高到2套。此外，传说风闻SK海力士计画于将来两年内安装好20套EUV光刻机，全数是为了HBM和进步前辈存储解决方案所采购的。

虽然英特尔极可能是首个于量产历程中导入High-NA EUV暴光技能的半导体系体例造商。不外，三星及SK海力士正于迎头遇上。尤其是SK海力士，以今朝的产能扩张速率，估计将需要更多的厂房，以为预备安装光刻机留下充足的空间。